ダイボンダー/フリップチップボンダー FALCONシリーズ

PRマルチな高精度部品搭載に対応！高度な荷重制御が要求されるアプリケーショ…

『FALCONシリーズ』は、マニュアルからオート仕様までユーザーのニーズの沿った 装置をラインナップしたダイ・フリップチップダイボンダーです。 オプションを組み合わせによる御社要求仕様でのダイ・フリップチップボンダーの製作を実現。 加熱機構、高荷重接合、ウェハからのピックアップ、チップ反転機能等、お客様の仕様に適した装置を提案可能。 また、搬送機などを取り付けたフルオート仕様に対応可能な上位モデ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

アリ溝式ステージ『セルフロックステージ　SLXシリーズ』

PR特許取得のロック機構で止めた位置から微動しないステージ。ロングストロー…

バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 位置調整後にステージをストップする特許取得のセルフロック機構を搭載。 手動ストッパーやクランプ操作による微動・位置ずれの心配がありません。 高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍します...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミラック光学

粉体に表面処理！減圧プラズマ粉体表面改質装置

プラズマ処理で粉体に親水性を付与！粉体の均一な混練・混合、液中への分散…

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は、ご相談下さい。 ご要望に応じた装置設計を致しま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング（RIE） その他詳細は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

【粉体工業展 出展】粉体に表面処理！減圧プラズマ粉体表面改質装置

プラズマ処理で粉体に親水性を付与！粉体の均一な混練・混合、液中への分散…

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は、ご相談下さい。 ご要望に応じた装置設計を致しま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

【粉体に付加価値！】真空プラズマ粉体攪拌処理装置

微粒子を均一にプラズマ表面改質し、粉体へ様々な機能を付加します！

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は、ご相談下さい。 ご要望に応じた装置設計を致しま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

WETプロセス装置　LCDマスク洗浄装置

マスクをブラシ・USスプレーで洗浄、高速スピン回転で乾燥します。

業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○インテリジェンスコントロールによるマスク基板へのソフトコンタクト ○メカニカルサイドグリップ方式を採用したマスクパターン非接触 ○自動マスク反転機構を備えた両面洗浄技術 ○マスクケースより自動取り出し収納機構 ○超音波ノズルによるスキャンスプレー洗浄 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

WETプロセス装置　LCDカセット洗浄装置

圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現しました。

T装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○シンプルな機構設計で省スペース、省エネルギー化を実現 ○カセット内側の専用ノズルによりコーム洗浄を行う ○圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現 ○HOT-FFU搭載によるチャンバー加温システ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研