シーリング装置『HRD155.2-SGi-14/4-16.5』

PRケーブルの壁貫通部の強力シーリングで水・土砂の流入を防止。幅広い外径に…

メカニカルシーリング装置『HRD155.2-SGi-14/4-16.5』は、 埋設ケーブルの円形壁貫通部の止水・土砂流入防止ができる製品です。 外径4～16.5mmのケーブルにアジャストできる機構を搭載しており、 14カ所あるケーブル貫通孔から任意に選んでケーブルを通すことが可能。 使わない貫通孔もプラグの締め付けにより優れた水密性を確保でき、 地下水位が高い場所での使用にも好適...

メーカー・取り扱い企業： 日本リンクシール株式会社

5軸用セルフセンタリングバイス／ゼロポイントシステム

PR高精度かつ、低コストを実現！初の日本販売！片側に1.5°スイングする口…

当製品は、片側に1.5°スイングする口金を採用し、グリップ力が 非常に向上したセルフセンタリングバイスです。 LANG社、HWR社、5th Axis社の52＆96システムと互換性がある 「ゼロ・ポイント・システム」を採用しております。 直接テーブルに設置できる溝とクランプエッジ付き。 【セルフセンタリングバイス　特長】 ■口金は、簡単に180度反転して入れ替えることができ、クランプ範囲を 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ファーステック

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

横型石英管タイプを標準とし４００～１０００℃程度の加熱に対応しています。 ４～６インチウェハの本格量産用途に対応した縦型タイプ（ウェハ自動搬送機構付）と４インチ以下のウェハに対応した横型タイプの２機種をラインナップ。 目的に合わせて開閉型の加熱炉体や急冷用空冷ファンの装備が可能で、高真空排気系・Ｏ２ガス系・ＡＰＣ機構など多くのオプション類を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

巻取式プラズマ処理装置（RtoRプラズマ装置　評価テスト受付中）

繊維の搬送・処理に実績を持っており電子関連や先端材料まで幅広い用途に対…

【カスタマイズ】 ■基板加熱機構：ランプ加熱機構、メインロール加熱、メインロール冷却 ■冷却機構：メインロール水冷・冷媒使用 ■プロセスガス：Ar、O2、N2その他選択可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）

大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

チウェハ対応の石英管の横型炉を標準とし、8インチ、縦型炉がオプション対応 高真空排気系も装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。 実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。 不活性雰囲気アニールにも対応できる専用アニール装置。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）

急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

急速加熱用熱板で３００ｍｍ□の基板の処理に対応。基板冷却機構により短時間・短タクト処理を実現。 長時間の加熱によるダメージが問題となる基板に安定した加熱プロセスを提供。 標準バッチタイプの評価を基にインラインタイプへのシステムアップが容易 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店