新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

高真空ダイカスト用剝離剤『サンバリューZ』

アルミ溶湯と接触してもほとんどガス化されない高真空ダイカスト用剝離剤の…

当製品は、離型剤成分は水溶性無機塩でアルミ溶湯と接触しても ほとんどガス化されない高真空ダイカスト用剝離剤です。 ブリスター品質が良好で微細な欠陥が少なく、アルミ溶湯と離型剤膜が 接触してもガス化しにくく、背圧が立ちにくい特長があります。 また、離型剤膜が凹凸のある膜で、アルミ溶湯と金型の接触面積が少ないです。 【特長】 ■離...

メーカー・取り扱い企業： 三和油化工業株式会社