半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』

PR±0.5％以下の測定精度で、水質管理の信頼性を向上。評価結果などの紹介…

『UPW UniCondセンサ』は、大手半導体メーカーとの共同開発により 堅牢な構造と高度な温度補正機能を備えた比抵抗計です。 環境温度やプロセス温度の変化による測定値の変化や 信号ノイズを防ぎ、高い温度補償比抵抗精度を実現。 半導体分野における水質の正確な把握と歩留まりの向上に貢献します。 【特長】 ■±0.5％以下の測定精度を実現 ■ノイズと水質変化による干渉を区別し、高...

メーカー・取り扱い企業： メトラー・トレド株式会社

調理はもちろん、除菌・乾燥にも対応！過熱水蒸気オーブン

PRひとつ上の美味しさを実現する、スチーム専門メーカーの技術力。調理から除…

過熱水蒸気オーブン『DFC-800-2R』は、 最高400℃の過熱水蒸気を常圧加熱で実現しました。 過熱水蒸気の「凝縮熱」は、豊富な熱量で食材を素早く均一に焼成し、 旨味と水分を閉じ込めてジューシーな食感をキープ。 調理庫の上部に扉を設置（フロントウイングハッチ式） 日頃の洗浄やメンテナンス工程がシンプルになり、時間とコストを低減します。 「過熱水蒸気」は調理だけでなく、除菌・乾燥・脱臭・焙煎...

メーカー・取り扱い企業： 直本工業株式会社

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

シスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています。エッチング装置部品の保護膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチング装置は、シリコンウエーハにエッチングし...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

【その他の特長】 ■石英・アルミナ・金属アルミへの成膜可能 ■石英ガラス上で500℃耐熱性を実現 ■歩留まり改善＋装置メンテナンスサイクルの大幅削減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、ドライエッチング装置部品の保護膜として、また、定期的メンテ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー