つばさ真空理研株式会社 【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜
- 最終更新日：2022-01-11 09:07:42.0
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時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、パーティクル低減、装置稼働時間が大幅アップし、生産性向上！
イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、ドライエッチング装置部品の保護膜として、また、定期的メンテナンスにおける再生としてご利用いただけます。
基本情報【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜
成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。
| 価格情報 | バッチあたり100万円のコストがかかります。直径1200mmに入る部品数によって単価が変わってきます。 |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ・エッチング装置の誘電体窓への成膜 ・ビューポート、エンドポイントディテクターへの成膜 ・エッチング装置チャンバーの側面への成膜 ・フォーカスリングへの成膜 |
カタログ【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜
取扱企業【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜
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■イオンアシスト真空蒸着技術を駆使した成膜材料・成膜技術開発 ・酸化イットリウム膜 ・酸フッ化イットリウム膜 ■エッチング装置部品の耐プラズマ性保護膜の受託成膜サービス ■エッチング装置部品の耐プラズマ性保護膜の再生受託成膜サービス ＜横浜ラボラトリー＞ 〒231-0812 神奈川県横浜市中区錦町12 三菱重工横浜製作所 本牧第二工場104 （YOKOHAMA HARDTECH HUB内）
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