フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

脱炭素を目指す『出光カーボンオフセットfuel（ICOF）』

PR燃料油を使用しながらCO2排出量のオフセットが可能！カーボンクレジット…

出光カーボンオフセットfuel（ICOF）は、 ガソリン、灯油、軽油、A重油にカーボンクレジットを付与した商品です。 普段通り燃料油を使用しながら、CO2排出量のオフセットが可能。 初期投資なしでスピーディーに導入でき、既存設備の変更も要りません。 オフセットの割合を4つのプランから選択できます。 【特長】 ■プラン（100％・50％・10％オフセット）は注文ごとに選択可能 ■J-クレジットを...

メーカー・取り扱い企業： 出光リテール販売株式会社

フッ素系溶媒対応チラー　ペルチェ式チラー・冷凍機式チラー

昨今入手困難で貴重なフッ素系溶媒の使用量を抑えることができるチラーです

定温度 : -10～80℃ / -15℃~70℃ 冷却能力 @20℃：1320W / (H)1600W (M) 1800W 1 (L) 2000W ポンプ：14Lpm@0.21MPa 外寸法(WxDxH)mm：483 x 610 x 221 ＜Thermo Cube＞ 設定温度 :５～50℃ (-5℃～65℃オプション） 冷却能力 @20℃ ：200W～600W@20℃(6モ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：700～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社