• フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置 製品画像

    フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

    PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

    真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

    メーカー・取り扱い企業: 富士ハイテック株式会社

  • 1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機 製品画像

    1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

    PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

    『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 【瞬時電圧低下補償装置TSP】なぜ保護が必要なのか? 製品画像

    【瞬時電圧低下補償装置TSP】なぜ保護が必要なのか?

    瞬時電圧低下による製品不良の発生と装置故障の損害からラインを守る『TS…

    ー、パソコン、電磁開閉器、高圧放電ランプ、 マグネット・スイッチ付きモーターなどが瞬時電圧低下の影響を受けて 動作に支障をきたす可能性があります。 シリコンメーカ様では研磨、エッチング、洗浄工程等で影響を受ける 可能性があり、デバイスメーカ様ではCVD、スパッタ、フォトリソ、 エッチング、イオン注入、拡散、洗浄工程での影響が想定されます。 このため半導体の製造設備に対し「SEM...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シナジー

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