• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

    • IPROS3391385136135994447_220x220.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も 製品画像

    『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

    PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…

    「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

    • リーフレット 洗浄と改質rev1.png

    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • 焼結金属パウダーフィルター 製品画像

    焼結金属パウダーフィルター

    高熱焼結される粉体焼結フィルター濾材、主に500℃まで対応可能。素材に…

    【特長】 ○形状安定性 ○対疲労、対衝撃に優れる ○耐熱・耐熱衝撃に有効 →ステンレスで500℃まで、また特殊になりますが~900℃まで対応する素材での試作検討が可能。 ○酸と(アルカリ)溶剤に優れた耐化学性 ○金属粉で形成された0.1μm~200μmの広範囲に亘る孔径の構成 ○逆流効果に優れている ○高圧、高温スチーム、薬品や焼成による洗浄性に優れる 製品の特長や素材の詳細...

    • エレメント1-445x1024.jpg
    • Picture3.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士フィルター工業 本社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • ipros_bana_提出.jpg
  • bnr_2405_300x300m_azx_me_ja.jpg

PR