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    開発支援・試作・受託生産

    PRクリーン環境と高精度装置で機能性フィルムを製造、お客様仕様のカスタムフ…

    お客様仕様のフィルム開発・受託生産を支援する『カスタムメイドシステム』 企画・開発・量産まで対応します。当社のフィルム加工技術をご利用ください。 試作スケールに合わせた装置でフィルム製造を行います。 ・ミニスケール200mm幅の小型テスト押出機での検討・少量試作 ・ミディアム~フルスケール(600mm~1300mm幅)の量産機...○ 押出実績樹脂  PC、COP、COC、PET、PBT...

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    メーカー・取り扱い企業: 五洋紙工株式会社

  • 粉体定量供給機『ロータリーバルブ』<課題解決事例を進呈中> 製品画像

    粉体定量供給機『ロータリーバルブ』<課題解決事例を進呈中>

    PR自社工場での一貫製作により高品質・短納期を実現。カスタム・フルオーダー…

    当社では、粉粒体の定量供給と密閉遮断を担う 『ロータリーバルブ』を提供しています。 食品など高い衛生管理が求められる分野でも実績豊富。 設計・製造から最終加工まで自社工場で一貫対応しているため、 高品質・短納期を実現できます。 課題解決事例を紹介した資料を進呈中。 詳しくはダウンロードボタンよりご覧ください。 【こんな課題を解決します】 ■機械の能力アップをしたいが、サ...

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    メーカー・取り扱い企業: 尾崎ウェルスチール株式会社 本社、機械加工工場、歌島工場、粉体工学研究所

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    VP型ドライルーツ式 真空ポンプ VPシリーズ

    独自の冷却技術を用いた 多段ルーツ式真空ポンプ

    可能 ○擬縮性ガスの吸引でも連続運転が出来ます。 ○真空ポンプケーシング内部の洗浄が容易に行える ○高温ガス130℃を直接吸引することができる(標準材・FC) ○吸引と同時に圧送ができる(特殊仕様により0.1MPa・Gまで可能) ○大気圧から締切り運転まで各真空度での連続運転が可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社四葉機械製作所

  • 緊急除害装置(S-CDシリーズ) 製品画像

    緊急除害装置(S-CDシリーズ)

    毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。(高圧ガス保安法一般則第55条第1…

    緊急除害装置「S-CDシリーズ」は、高圧ガス保安法に対応した緊急用乾式除害設備です。 (高圧ガス保安法一般則第55条第1項) ● 特殊高圧ガス(7種)の他、アンモニア、塩素など、各種ガスの仕様に合わせた安全設計 ●排気ブロワーのインバーター制御による省エネ設計 ●ガス漏洩信号など、外部信号入力により緊急運転切替 ●屋内仕様など様々なニーズに対応...●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタロ...

    • S-CD Series 屋外用(小型).png
    • S-CD Series 屋内用(小型).png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー+特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質!低価格!】 製品画像

    ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質!低価格!】

    様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です!

    「BI-LOK」は、ダブルフェルールタイプの継手です。 流体の漏れを防ぐフロントフェルールと、パイプ管の保持を行うバックフェルールとで、流体を確実にシールします! 高品質なのに、低価格なのはイハラだけ! ※詳しくは、カタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問合せください。...【特長】 ●多様なサイズ展開(インチ、ミリ、スケジュール管) ●特殊な形状・接続にも対応可能(※...

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    メーカー・取り扱い企業: イハラサイエンス株式会社

  • 酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置 製品画像

    酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置

    広範な膜特性の制御可能!大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

    『酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

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