• OPPテープ『オーキッドOPPテープα(アルファ)シリーズ』 製品画像

    OPPテープ『オーキッドOPPテープα(アルファ)シリーズ』

    PR高機能!環境負荷が少なく、低温対応強粘着OPPテープ/業界最薄クラスで…

    『オーキッドOPPテープα(アルファ)シリーズ』は、環境配慮に優れた低温対応・強粘着タイプと、燃焼時CO2・保管スペース・コストを削減できる業界最薄クラスタイプを取りそろえた、高機能のOPPテープです。 ■ オーキッドOPPαシリーズの特長 ・環境に配慮した特殊なアクリル系粘着剤使用 ・匂いが少ない  通常のアクリル系粘着剤を使用したテープに比べて匂いが少ないテープです。(当社比) ...

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    メーカー・取り扱い企業: 富士工業株式会社 東京本社

  • 設置面積は僅か0.5m2!省エネ改善に貢献する小型射出成型装置 製品画像

    設置面積は僅か0.5m2!省エネ改善に貢献する小型射出成型装置

    PRコンパクトサイズで軽量にも関わらずスーパーエンプラまで成形できる小型射…

    エプソンテックフオルムの小型成形機『AEシリーズ』はコンパクトサイズで 軽量にも関わらずスーパーエンプラまで成形できる射出成形機です。 ここでは型締め力3t横型成形機『AE-M3』を例に説明します。 サイズ(専用の架台込み)は幅900mm x 奥行550mm x 高さ1340mm(設置面積0.5m2) 。 製造フロアの増設などしなくとも限られたスペースに設置ができる「省スペース」が最大...

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    メーカー・取り扱い企業: エプソンテックフオルム株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • スタック式加熱炉 硬化炉・乾燥炉 製品画像

    スタック式加熱炉 硬化炉・乾燥炉

    加熱乾燥工程の自動化に最適!放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢…

    ・加熱温度の管理が可能です。 加熱炉の省スペース化に貢献でき、加熱後は次工程へ排出するか、冷却ステージに収納 もしくはマガジンへ収納することも可能な全自動加熱装置を提供いたします。 【特長】 ■優れた均熱性能 ■長時間の加熱が可能 ■炉室毎に時間管理を行う ■加熱炉の省スペース化に貢献 ■加熱工程の省エネに貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

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    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉 製品画像

    ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉

    加熱工程の自動化に貢献!昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法で…

    基板・トレイをローダーから取り込み、枚葉処理にて加熱ステージへ 搬送し昇温いたします。  熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用し、省エネ・省スペース性に 優れた加熱炉です。 【特長】 ■全自動生産ラインに組み込み可能 ■インライン対応 ■熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用 ■優れた省エネ・省スペース性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

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    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    より小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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