DDS機能を搭載した任意波形発生器『AWG』

PRQuantum Computingに好適！信号生成アプリケーションに有…

『AWG』は、発生する信号を、直接qubitに印可または、AOM、AOD、EOMに 印可してレーザ制御を行うことにより、qubit内の量子操作とqubitの状態の 読み出し処理ができる任意波形発生器です。 DDS(Direct Digital Synthesis)機能を備えており、デバイスを簡単な コマンドで高速に制御できるため、高速かつ複雑な各種量子操作が可能。 また、qubi...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エレクトロニカIMT事業部

『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…

大手バルブメーカーKITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行って...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

乾式除害装置(MAKシリーズ)

大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

乾式除害装置「ＭＡＫシリーズ」は、排気ガス中の有害成分を化学処理剤トムクリーンと反応させ、安全な化合物に変えて処理剤内に固定し、弊社にて産業廃棄物として処理されます。 トムクリーンを処理対象成分に合わせて選択することにより、多種多様な排気ガスに対応できます。...【幅広い対応範囲】 　各種処理剤がラインナップされており、各種プロセスの排気ガスに 　最も適した処理剤の選定ができます。 　また...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応 　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他 　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 　乾式除害では処理できない可燃性ガス（...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。 パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はあり...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社