• 高圧式リングブロアー総合カタログ※HO HSING 製品画像

    高圧式リングブロアー総合カタログ※HO HSING

    PR高圧式リングブロアーと油式回転真空ポンプの総合カタログ!

    高圧式リングブロアーは吸い込む空気は螺旋軌道を描きながら圧縮室を通り、 インぺラの遠心推力により繰り返し加速される為、排気スロットで高圧が得られるようになります。 油式回転真空ポンプは精密ポンプと高い軌道トルクの直結駆動誘導電動機から成っており、 低コストと高性能により、中程度の真空を必要とする食品加工、印刷など様々な分野で使われています。 【主なラインナップ】 ■高圧式リングブロアー ・ケー...

    メーカー・取り扱い企業: ユニオン産業株式会社

  • ばね入りCリング・メタルシール『ヘリコフレックスシール』 製品画像

    ばね入りCリング・メタルシール『ヘリコフレックスシール』

    PR非常に優れた許容漏れ量と耐食性!お客様の用途に沿うシール特性にカスタマ…

    『HELICOFLEXヘリコフレックスシール』は、フランス原子力庁(CEA)と 共同で開発された、弾性を持つばね入りCリング・メタルシールです。 本製品の驚くべきパフォーマンスは、原子力、航空宇宙、高真空分野、 石油精製/化学、ガスやその他一般産業等の市場において長年の研究開発、 実験や実用における結果です。 柔軟な設計対応で、お客様のご用途に沿うシール特性にカスタマイズした製品を提供します。...

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    メーカー・取り扱い企業: テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社

  • 【表面処理】発塵防止付与 半導体製造装置関連 製品画像

    【表面処理】発塵防止付与 半導体製造装置関連

    半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、真空蒸…

    ■溶射材料:アルミニウム ■溶射方法:アーク溶射 ■施工効果:真空蒸着時のシールドからの発塵防止...

    メーカー・取り扱い企業: 富士岐工産株式会社

  • 【表面処理】耐プラズマエロージョン 半導体製造装置関連 製品画像

    【表面処理】耐プラズマエロージョン 半導体製造装置関連

    半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イット…

    ■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連...■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連...

    メーカー・取り扱い企業: 富士岐工産株式会社

  • 【表面処理】発塵防止付与 アルミニウム溶射 製品画像

    【表面処理】発塵防止付与 アルミニウム溶射

    半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、真空蒸…

    ■溶射材料:アルミニウム ■溶射方法:アーク溶射 ■施工効果:真空蒸着時のシールドからの発塵防止...

    メーカー・取り扱い企業: 富士岐工産株式会社

  • 【表面処理】耐プラズマ性付与 イットリア溶射 製品画像

    【表面処理】耐プラズマ性付与 イットリア溶射

    半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イット…

    ■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマ性付与...■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマ性付与...

    メーカー・取り扱い企業: 富士岐工産株式会社

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