小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

電流導入端子

PR高真空、超高真空へ の電流導入端子です！

米国MPFプロダクト社の電流導入端子のご紹介です。 ■MIL丸型、C-Sub型のマルチピン、熱電対、高電流・高電圧タイプ、同軸タイプ等各種電流導入端子を取り扱っております。 ■電流導入端子と併せて使用するコネクタ、ケーブル等もお取り扱いがございます。 ■標準品のカスタマイズ（フランジの変更、ピン長さの変更等）にも対応しております。まずはお問い合わせ下さいませ。 ※詳しくはカタログを...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

【技術データ進呈】凹凸のある部品に適した表面処理“真空蒸着技術”

部品に合う表面処理選び出来てますか？高温処理による基材影響・薄膜による…

『真空蒸着技術』とは、薄膜原料を真空中で加熱・蒸発させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。凹凸のある製品に適した表面処理技術です。 カツラヤマテクノロジーでは、フッ素系高分子...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

金属部品の微細な凹凸に撥水・離型性を！フッ素コート蒸着処理加工

【受託加工】最高温度50℃の低温処理で基材への熱影響を低減させた表面理…

カツラヤマテクノロジーの『NANOSスプレーコート』は真空蒸着のプロセスをベースに開発したカツラヤマテクノロジー独自のスプレー方式です。 スマートフォンやタブレット・カーナビなどタッチパネルのカバーガラスに耐指紋性（AF・AS）や滑り性（摺動性）を向上さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

フッ素蒸着処理「有機ナノ薄膜処理 NANOS」

金属部品の微細な凹凸表面に撥水・離型性を付与！フッ素コート蒸着処理技術…

カツラヤマテクノロジーの『蒸着処理』は、フッ素薄膜原料を真空中で加熱・蒸発 させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。 カツラヤマテクノロジーでは、フッ素系高分子を原料とし、プロセス全体の 最高温度が50℃と低温で処理でき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部