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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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効率の良い加熱です(時間短縮・連続化・量産化・装置小型化)
量産化・装置小型化) ○物質の内部まで均一に加熱できる(品質向上・歩留まり向上) ○温度分布を均一にできる(品質向上・歩留まり向上) ○加熱炉の温度調節が容易(品質向上・自動化・省力化) ○真空中でも効果は変わらない/クリーン加熱が可能/環境に優しいヒーター 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社AMK
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太陽からのエネルギー距離やエネルギー内訳などを解説
装置を取り扱って いる会社です。 日向ぼっこがぽかぽか暖かいのは遠赤外放射だからという人がいますが、 太陽の表面温度は6000Kと言われています。 地球からの距離1.5×108Kmの真空中を8分20秒かけて電磁波として飛んできます。 太陽は高温であるから放射エネルギーの内訳は紫外線として8%、可視光線と して44~53%、赤外線として39~49%、その内の近赤外線がほとんどで ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社AMK
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直接加熱と間接加熱はその様態は同じであるが、遠赤加熱は決定的に異なって…
【特徴】 [遠赤外ヒーター] ○ヒーター温度は真空脱泡で30~50℃、アニールや水分乾燥で 100~500℃、フイルム加熱で100~300℃、 塗装乾燥で200~500℃であり、一般的に600℃以下で使用されている ○ヒーター温度は自由に...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社AMK
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有限会社AMKの技術資料をご紹介します。
20μに吸収体がある)である 塗料・プラスチック・ガラス・セラミック等の加熱に特に有効 ○熱放射率が高いので高効率・省エネルギーのヒーターです。 ○媒体無で直接被加熱物に作用し加熱するので、真空中でも加熱できる ○遠赤外線ヒ-タ-は、物体を加熱する場合、 表面と内部が殆ど均一に加熱できるため昇温時間が短く効率的 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社AMK
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遠赤外線加熱が加熱方式としてどの区分に入るのかを解説
を対流加熱といいます。 3.電気ストーブやトースターのように熱源と直接的にも間接的にも接触しないで、 熱源から離れたところで直接熱を受け加熱することを放射(輻射)加熱といいます。 そのため真空中でも加熱できるのが大きな特徴です。 よく質問される電子レンジは全く違う加熱方法です。 熱源はなく一定の波長の電磁波をだし相手の物体にある水分子運動を 励起し発熱させる方法で放射加熱とは言...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社AMK
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