FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー

最高温度2300℃まで加熱可能な超高温チャンバー 自社装置はもちろん、…

最高2300 ℃まで試料を加熱できる超高温チャンバーです。 ストリップヒーター材質によって最高温度と測定雰囲気が異なります。 タングステンヒーター: max 2300℃(真空) 白金ヒーター: max 1600℃(真空、空気) タンタルヒーター: max 1500℃(真空、空気) ヒーター上に試料を乗せて直接加熱する方式を採用しており...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー

-190℃～600℃で温度制御できる中低温チャンバー 自社装置はもちろ…

-190℃～600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。 液体窒素を使用して-190℃～600℃の温度制御を行うことができます。（圧縮空気のみの冷却では-20℃～600℃） グローブボックス内でアンティチェンバーへ試料をマウントすれば、試料を大気曝露せずにチャンバー本体に装着してすぐに測定開始できます。吸湿性のある試料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン