FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度　300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより 　プロセスの確認に必要な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」

加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」

窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません

ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」は、上面が耐熱ガラスの透明扉ですので、視認性がよく、また、発光デバイスの試験、顕微鏡観察、カメラ観察による評価に適しております。 窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません。 【特徴】 ○温度範囲　-40～150℃ 対応 ○扉はフリーストップ構造により、任意の角度で保持している ○MSA　デジタル温度コントローラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

真空ホットプレートチャンバー　PH-224型

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での高速昇温加熱プロ…

「PH-224型」は最高温度400℃ 対応の真空ホットプレートチャンバーです。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。また、観察窓により、ワークの状態が視認できます。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。空冷にて、最高温度400℃対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー