ステンレス製バフ研磨装置　～機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現～

PRステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安…

弊社のバフ研磨装置、砥石研磨装置は、主に伸銅（条）業界においてご使用いただいております。 焼鈍後の酸化スケール除去、出荷前の仕上工程等で役立ちます。 ◆長期間の使用で機械周りの錆や腐食が気になる！ 　 洗浄ブース構造で観音扉、飛散防止カバー等によりブース外への水飛散対策をし、 　 更には高剛性スタンドやベースをステンレス製にする事で設置場所の雰囲気による腐食も防ぐので安心して長期間お使いいただけ...

メーカー・取り扱い企業： 生田産機工業株式会社

複雑な形状のシャフト研磨装置「IRF-1000」

PR複雑な形状のシャフトが研磨できる加工技術！

従来のフィルム研磨工法をさまざまな角度から駆使し、円筒物の外周部だけでなく、ワークの輪郭に好適角度でコンタクトローラーを押し当てる事が可能な「ワーク輪郭部追従型」フィルム研磨装置を開発しました。 【特徴】 ○研磨ヘッドをワークの研磨面に好適な角度で押し当てる事が可能 ○2種類のコンタクトローラーをローテーションすることで幅広い研磨加工が可能 ○最大90°まで研磨ヘッドを振ることが出来るため際まで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コバックス

Siナゲット洗浄装置

Siナゲット洗浄装置　専用バスケットで自動搬送　化学研磨・酸切・高品位…

本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通しワークは洗浄されます。このとき、洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています。 洗浄後は乾燥専用バスケットに移され、１５０℃の温風で予備乾燥されます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　…

＜装置概要＞ 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm／5個の高清浄度を達成しています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧パルスジェット DP-Gun　マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧断続スプレー「DP-Gun」

各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）