• 「小型工作機械」総合カタログ【試作・研究開発・小ロット生産用】 製品画像

    「小型工作機械」総合カタログ【試作・研究開発・小ロット生産用】

    PR【最新版カタログ進呈中】試作・研究開発・小ロット生産用の小型旋盤・フラ…

    長年の工作機械製造技術を結集した独自の品質管理システムのもとに、丁寧に仕上げられる高品質の小型旋盤・フライス盤のカタログです。 操作が容易な上、コストパフォーマンスが高いことから、各企業、大学、研究機関などに多数の販売実績があります。 【掲載内容】 ■小型旋盤  ■小型フライス盤  ■小型ラジアルボール盤  ■万能工作機械   ■小型帯鋸盤  ■折曲機   ■ミニハンドプレス   ■切断機  ...

    メーカー・取り扱い企業: 寿貿易株式会社_株式会社メカニクス

  • 1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機 製品画像

    1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

    PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

    『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機 製品画像

    1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

    シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

    トの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です。 【特長】 ■各種洗浄方法・薬液を組み合わせ可能 ■研究開発用途や小~中規模の現場に対応 ■SiC、GaN、LTなどの小径ウェハ、  パワー半導体の新素材を開発・生産している現場にも好適 ■対応ウェハサイズ:3インチ~6インチ(8~12インチも別途...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

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