• REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』 製品画像

    REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』

    PR耐摩耗性・耐食性・耐焼付性などを向上。実績資料を進呈

    『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』は、熱化学的に軟窒化+酸化を 施す技術で、塩浴中の窒素と少量の炭素で鉄素材表面を強化します。 REACH規制に適合するなど環境負荷が低く、クロムめっきの代替などにも活用可能。 ガススプリングや油圧シリンダー、ブレーキピストンなど様々な製品の 耐摩耗性・耐焼付性・耐食性・疲労強度の向上に貢献します。 クロムめっきからの代替実績を紹介した解説...

    メーカー・取り扱い企業: HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

  • PVD CVD コーティング膜の特性と選定方法 【下地処理編】 製品画像

    PVD CVD コーティング膜の特性と選定方法 【下地処理編】

    PR金型に適したコーティング(PVD , CVD)を選定できてますか?工具…

    ピーニングや窒化といった金型向けの下地処理は、硬質膜と併用することで金型の工具寿命は飛躍的に向上させることが知られています。 今回は当社が行う下地処理であるDM処理と窒化処理について解説しています。 【掲載内容】 ■硬質膜の特性と間違えない選び方 ■当社独自のDM処理について ■窒化処理(FA窒化)について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せください。......

    メーカー・取り扱い企業: フジタ技研株式会社

  • 半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」 製品画像

    半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

    2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

    <主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア「APSYS」 ■Stanford大学開発のSUPREMをクロスライトが独自に機能拡張した「CSUPREM」 ■マスク編集ツール(GDSII可) ■デバイス断面構造の入力・編集ツール ■シミュレーション結果をグラフィカルに表示 <デバイスシミュレーションのための多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

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