• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • シリコン(Si)粉末 製品画像

    シリコン(Si)粉末

    PRSi純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…

    当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン(Si)粉末』を提供しています。 Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 薄膜用 高強度アルミナ基板 製品画像

    薄膜用 高強度アルミナ基板

    薄膜回路形成に好適! 高強度、高純度、平面平滑に優れたJFC独自のアル…

    当社が製造する薄膜用高強度アルミナ基板は、微細で均一な原料粉末の使用で得られる緻密で滑らかな表面が、微細な薄膜回路形成に好適です。 高純度で曲げ強度が高いため、基板を薄くしても割れにくくハンドリング性に優れ、基板の小型薄肉化に貢献しております。 温...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社

  • 高品位アルミナ基板 製品画像

    高品位アルミナ基板

    新素材を生かした基板誕生

    独自の薄板セラミックス製造技術から生まれた高純度のアルミナ基板 高品位アルミナ基板は微細で均一な高純度アルミナ粉末を使用した優れた特長を持つアルミナ基板です 【特長】 ○表面粗さが小さい  焼放し品でも研磨品並の表面粗さ(Ra 0.03m) ○曲げ強度が大きい  三点曲げ強度が660MPaと、従来...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社

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