• 銅の接合・積層、銅とアルミの接合が可能な、青色半導体レーザー溶接 製品画像

    銅の接合・積層、銅とアルミの接合が可能な、青色半導体レーザー溶接

    PR銅の溶接に適した波長のレーザー溶接です。2mm深さの溶接などが可能な国…

    「青色半導体レーザー溶接」とは、工業分野で特に銅素材に対して、 高品質溶接が可能となるレーザースペックです。 IRレーザーと異なる波長帯である、450nmの波長を有する レーザー光を青色レーザーと呼びます。銅などの元素において 吸収率が高いレーザー光です。 青色半導体レーザ光の使用で銅や金のような非鉄金属加工のみならず、異なる金属間同士での結合における新たな可能性も見えております...

    メーカー・取り扱い企業: 南海モルディ株式会社(旧:南海鋼材株式会社)

  • 『粉粒体定量供給機の総合カタログ』※納入事例集も進呈 製品画像

    『粉粒体定量供給機の総合カタログ』※納入事例集も進呈

    PR約100ページの大ボリューム。化学・製鉄・製紙・食品など多業界で活躍す…

    粉粒体の定量供給機をはじめ、排出機、計量機、周辺機器などをまとめた 約100ページの『総合カタログ(供給機選定表付き)』を進呈中です。 脈動のない高精度の連続供給を実現した製品や、 製品の形状変化を防ぎながら定量供給が可能な製品、 貯留サイロ1基から多方向へ供給できる製品など 多彩な製品の特長を詳しくご紹介。 供給・計量・制御が1台で完結するロードセル内蔵型の 連続計量供給機...

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    メーカー・取り扱い企業: グローバルマテリアルズエンジニアリング株式会社(旧大盛工業株式会社)

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    4N超高純度 シリコン(Si)粉末

    Si純度>99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 *25元素不…

    材料:シーメンス法バージンポリシリコン(6N以上) Si粉末不純物濃度:    25元素不純物濃度合計=20.21ppm(GDMS分析)    → Si+Others > 99.9979%    粉砕工程で2回の酸洗いと磁選により、高純度化を実現。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 粒度・材料指定可 シリコン(Si)粉末 製品画像

    粒度・材料指定可 シリコン(Si)粉末

    用途広がるシリコンパウダー(粉末) 必要スペックに基づき、粒度・使用…

    用途に応じて、シリコン原料と粉砕粒度を柔軟にに選定・組み合わせ。 材料:金属シリコン(1101/2202/3303/441/553)    金属冶金法ポリシリコン(4N/5N/6N) 粒度:D50=5µmー50µm程度の範囲内でご指定頂けます。    なお、数ミリ~サブミクロン(ナノ)単位まで幅広くご相談頂けます。    (粒度・Si純度・数量に基づき、価格見積もりをご提出いたし...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 3N高純度 シリコン(Si)粉末 製品画像

    3N高純度 シリコン(Si)粉末

    Si純度>99.9% 3N高純度 シリコン粉末

    材料:金属冶金法ポリシリコン(4N) 粒度:D50=8µmー10µm...■ボールミルによる粉砕事例 <材料:金属冶金法ポリシリコン4N:粉砕粒度D50=6.75μm>   Si(%)純度  >99.9%   Fe(ppm)   180   Al (ppm)< 200   Ca(ppm)<  51 *量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • リチウムイオン電池負極用 一酸化ケイ素(SiO)微粉末 製品画像

    リチウムイオン電池負極用 一酸化ケイ素(SiO)微粉末

    LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用 高純度 一酸化ケイ素(SiO…

    中国より輸入する高純度一酸化ケイ素(SiO)微粉末。 ■粒度規格 (定番3種類、その他ご相談可) D50=1.0μm D50=4.0μm D50=5.0μm ■化学成分(代表値) D50=1.0μmの場合...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』 製品画像

    ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』

    短時間で100nmレベルへの粉砕が可能!リチウムイオン電池負極用シリコ…

    『Si-P-015』は、シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、 洗浄・乾燥・粉砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、 切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は4N以上(C/Oを除く)の水準です。 乾燥状態でD...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • LiB負極用 ナノ級 シリコン(Si)微粉末 製品画像

    LiB負極用 ナノ級 シリコン(Si)微粉末

    リチウムイオン電池負極用 ナノ級 シリコン(Si)微粉末

    ハイグレード金属シリコンを出発原料とする、ナノ級 Si微粉末 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • リチウムイオン電池負極用 5μm 一酸化ケイ素(SiO)微粉末 製品画像

    リチウムイオン電池負極用 5μm 一酸化ケイ素(SiO)微粉末

    LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用 高純度 一酸化ケイ素(SiO…

    中国より輸入する高純度一酸化ケイ素(SiO)微粉末。 ■粒度規格 D50=5.0μm ■化学成分(代表値) SiO+Others >99.9%  Al: 157ppm Cr: 27ppm M...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • リチウムイオン電池負極用 4μm 一酸化ケイ素(SiO)微粉末 製品画像

    リチウムイオン電池負極用 4μm 一酸化ケイ素(SiO)微粉末

    LIB負極用/光学用/保護フィルム蒸着用 高純度 一酸化ケイ素(SiO…

    中国より輸入する高純度一酸化ケイ素(SiO)微粉末。 ■粒度規格 D50=4.0μm ■化学成分(代表値) SiO+Others >99.9%  Al: 301ppm Cr: 130ppm M...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • LiB負極用 3N高純度 シリコン(Si)微粉末 製品画像

    LiB負極用 3N高純度 シリコン(Si)微粉末

    Si純度>99.9% リチウムイオン電池負極用 シリコン(Si)微…

    金属冶金法ポリシリコン(4N)以上を出発原料とする、 3N(Si>99.9%) Si微粉末 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • LiB負極用 4N超高純度 シリコン(Si)微粉末 製品画像

    LiB負極用 4N超高純度 シリコン(Si)微粉末

    Si純度>99.99% リチウムイオン電池負極用 シリコン(Si)…

    金属冶金法ポリシリコン(5N)以上を出発原料とする、 4N(Si>99.99%) Si微粉末 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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