• 酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』 製品画像

    酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』

    お客様に好適なポリッシング剤をカスタムメイドでご提供します!

    当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、 高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。 SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、 ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを 対象としています。 【特長】 ■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である ■難加工...

    メーカー・取り扱い企業: 山口精研工業株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg