ノンソルベント有機無機ハイブリッド材料　★高屈折　★低線膨張

PR溶剤乾燥の必要がなく、紫外線照射等で瞬時に硬化できます！

無溶剤タイプのナノ粒子 / アクリレートモノマー分散体です 高屈折率タイプ(KZ-100)・・・高屈折率ながら、ハンドリングしやすい粘度、高透明性を維持します 低線膨張タイプ(KS-200)・・・低線膨張でありながら、低硬化収縮、高透明性を維持します 開始剤、レベリング剤など無添加の為、使用方法、用途に応じて選択できます (ＰＦＡＳ不使用です）...詳しくはカタログをダウンロードして...

メーカー・取り扱い企業： 共栄社化学株式会社 本社

【総合カタログ進呈！】紫外線（UV）殺菌装置・紫外線酸化装置　等

PR【純水・超純水の殺菌や紫外線酸化装置まで！】紫外線殺菌装置ならフナテッ…

40数年前、新しい殺菌手段として、水の紫外線（UV）殺菌装置を開発したフナテック製品の総合カタログです！ 純水・超純水用や工業用水、水産養殖・温泉水用など種類豊富な 紫外線（UV）流水式殺菌装置を中心に紫外線酸化装置、オゾン分解装置までご紹介しております。 【掲載製品】 ■紫外線流水式殺菌装置　RTシリーズ・MSシリーズ・HPシリーズ ■紫外線酸化装置　CXシリーズ・FOVシリー...

メーカー・取り扱い企業： フナテック株式会社 本社　

UVオゾンクリーナー　UV-1

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)

洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング…

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300H

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社