産業用 レンズ拡散板『LSD』

PR光の「拡散」をコントロールする。85～92％の高い透過率で効率よく照明…

『LSD』は、微小でランダムなレンズアレイの拡散機能により光を拡散整形し、 照明ムラを解消する、拡散シート・光拡散フィルムです。 必要な範囲にだけ光を配光できるので効率的な照明を実現できます。 紫外線・可視光・近赤外線で使用可能な素材をそれぞれ用意しているため、波長 にかかわらずお使いいただけます。 ポリカーボネイトやアクリルのシート上にミクロンサイズのレンズが完全に ランダムな状態に配置され...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプティカルソリューションズ

『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに！初心者にもわかりやすく解…

「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない（材料・条件による） ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-1

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。 ...【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト ●その他機能や詳細につ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300H

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理（200～300nm/min）が可能 ○非貴金属系触媒...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵して...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社