• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • EO-Qスイッチ ナノ秒 DPSSレーザー 製品画像

    EO-Qスイッチ ナノ秒 DPSSレーザー

    距離測定などのアプリケーションに最適なDPSS EO-Qスイッチナノ秒…

    ァイバ カプラ(オプション) ■ 長時間使用においても安定した性能 LD励起固体(DPSS)レーザーであり、527 nmで高エネルギーと高繰り返し周波数をご提供します。 高品質のNd:YLF結晶とQスイッチの使用により、50 mJ @ 1 kHz, パルス幅 200 nsを実現しました。 科学研究における広い分野、産業および軍事用途、特に、高いシングルパルスと高い平均出力を必要とする...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • 厚み・うねり計測装置(非接触) 製品画像

    厚み・うねり計測装置(非接触)

    医用/理化学用途 マイクロ流路デバイス等での厚み・うねりでお困り毎あり…

    (光干渉断層像)技術を応用したガラスなど透明体の非破 壊断層計測装置です。計測用途に応じてペン型測定ユニットや平面測定システム、曲面測定システムを取り揃えています。 【特 徴】 ガラス、樹脂、結晶体など透明体の平面から不定の幅広い形状に対応できます。 0.03~10mmのロングレンジ計測、分解能は0.2μm以下です。...

    メーカー・取り扱い企業: パルステック工業株式会社

  • 非接触透明体厚み・うねり計測装置 ” HM-1000 ” 製品画像

    非接触透明体厚み・うねり計測装置 ” HM-1000 ”

    低コスト、ポータブルなガラス厚み計測装置 ※独自の深度方向スキャン方…

    (光干渉断層像)技術を応用したガラスなど透明体の非破 壊断層計測装置です。計測用途に応じてペン型測定ユニットや平面測定システム、曲面測定システムを取り揃えています。 【特 徴】 ガラス、樹脂、結晶体など透明体の平面から不定の幅広い形状に対応できます。 0.03~10mmのロングレンジ計測、分解能は0.2μm以下です。...

    メーカー・取り扱い企業: パルステック工業株式会社

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