• 小型連続晶析装置『リアクタライザー』 製品画像

    小型連続晶析装置『リアクタライザー』

    PR原薬やファインケミカル・二次電池の開発に!閉塞・バックミキシングなく均…

    『リアクタライザー』は、結晶生成を効率化する小型連続晶析装置です。 反応管内にテイラー渦流を起こすことで、閉塞やバックミキシングなく、 連続的な強力なせん断攪拌が行なえ、均質な粒径の粒子生成が可能。 また、核の発生や結晶の成長の高速化にも貢献します。 【特長】 ■閉塞なく連続した結晶生成が可能 ■均質な粒径の粒子を生成 ■核発生・結晶の成長スピード向上にも貢献 ■原薬やファ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社徳寿工作所

  • 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 全固体電池用セラミックス材料 製品画像

    全固体電池用セラミックス材料

    次世代蓄電池として期待される全固体電池用セラミックス材料

    、全固体電池用セラミックス材料を製品化しました。  *国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (特許第5907571号、特許第6326699号のライセンスを受けています) NASICON型の結晶構造を有する「LATP(Li1.3Al0.3Ti1.7(PO4)3)主体の電解質基板」であり、イオン伝導率は~7×10-4S/cmに相当します。...

    メーカー・取り扱い企業: 共立エレックス株式会社

  • 超高平坦度基板 製品画像

    超高平坦度基板

    加工管理、時間の短縮、コスト削減、歩留向上にもお役に立つことが可能!

    当社が取り扱う『超高平坦度基板』をご紹介いたします。 通常の半導体向け単結晶基板を小口径基板においても高平坦度化を実現いたしました。 通常加工において、平坦度(TTV)が≦3umが限界の加工精度であったところを TTV≦1um化を実現、ご要求仕様によっては更なる高平...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シリコンテクノロジー

  • 研磨加工 製品画像

    研磨加工

    研磨加工

    対応も可能です。 ■光ディスク DVD、CD、MO等のピックアップ ■映像機器 液晶プロジェクター用、CCDカメラ用、ダイクロイックプリズム等 ■光通信 高消光比PBS、各種結晶加工 ■双眼鏡・カメラ ポロ、ダハプリズム、ペンタプリズム 等 ■半導体機器 測長用基準ミラ−、CCP(コーナーキューブプリズム)、BS(ビームスプリッタ)等 ■医療用機器 ...

    メーカー・取り扱い企業: 豊和産業株式会社

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