小型設計で省スペースに設置可能！小型射出成型装置『AEシリーズ』

PR【設置面積は0.5m2以下！架台を入れても重量220Kg】省スペースと…

射出成型装置の導入の際にこのようなことにお困りではないですか？ ■工場のレイアウト上、設置スペースが狭く射出成型装置が設置できない。 ■工場の床の耐荷重制限により、射出成型装置の導入が難しい。 ■2回以上の製造フロアに射出成型装置を導入したいが耐荷重制限がある。 ■ラボの床に導入したいが耐荷重の制限がある。 そんなお悩みを解決できるのが小型射出成型装置『AEシリーズ』です。 『AE...

メーカー・取り扱い企業： エプソンテックフオルム株式会社

CFRP用熱硬化性樹脂 CBZ

PR優れた「生産性」と「CFRP物性」で、「CFRP部材の軽量化、低コスト…

株式会社日本ファインケムと日本ユピカ株式会社は2024年10月1日に合併し、 新会社「三菱ガス化学ネクスト株式会社」としてスタートいたしました。 『CBZシリーズ』は、炭素繊維を初めとする様々な繊維との密着性に優れ、 機械物性に優れたFRPを得ることができる熱硬化性樹脂です。 従来の不飽和ポリエステル樹脂やビニルエステル樹脂と同様に各種成形法 への適用が可能。常温硬化から高温硬化まで...

メーカー・取り扱い企業： 三菱ガス化学ネクスト（旧日本ユピカ）株式会社 本社

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったＰＶＤ法による」ＳｉＣ成膜を実現。 ４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）

ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフ…

ッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。 従来のＤＬＣ膜も新カソードの機能を追加し性能UP。 密着力。耐面圧の向上を容易に実現 もちろん従来のPIG式ＤＬＣ膜コーティング装置は機能追加でシステムアップＯＫ ＣＶＤ／ＰＶＤ単体性能も充分発揮できる最新型新機能硬質膜コーティング装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店