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  • 『アルマイト処理／加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈 製品画像

    『アルマイト処理／加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈

    PR当社の高精度なアルマイト処理技術により、 アルミニウム製品へアルマイ…

    試作から量産まで、幅広いご要望に対応いたします。 【特長】 ■耐食性・耐摩耗性・熱放射性などの特性が向上 ■高い電気絶縁性 ■シュウ酸アルマイトは、硫酸アルマイトに比べて表面の粗化を抑制 　また、高Ｓｉ含有のアルミダイカスト部品に対し膜厚均一性が高い ■低反射率化（光学機器・センサー等で不要な反射を抑制） ■抗菌作用の付与 ■アルマイト条件を高精度に管理することで、　膜厚・皮膜...

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    メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊田電研

  • 新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所 製品画像

    新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

    PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

    株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

  • 光学フィルター用多層膜成膜イオンビームスパッタ装置 製品画像

    光学フィルター用多層膜成膜イオンビームスパッタ装置

    DWDM成膜用イオンビームスパッタ装置です。

    光学分野用イオンビームスパッタ装置です。 スパッタ:16cm RF Ion Source アシスト:16cm RF Ion Source ターゲット：2面　揺動機能 ステージ：自転 膜厚制御：透過型波長可変レーザー膜厚制御 主排気：クライオポンプ　又は TMP+SUPCOLD 詳しくはお問い合わせ願います。 ...

    メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

  • イオンビームスパッタリング装置 製品画像

    イオンビームスパッタリング装置

    RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

    お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

    メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

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