小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

PRR＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

シリカコート【トフマク　非粘着コート】

シリカコート トフマクにシリコーン、あるいはフッ素系の非粘着層を有する…

応し、高純度シリカ（アモルファスSiO2）膜が得られます。 塗布後溶剤が揮発すれば速やかに硬化し、比較的低温（１００～１５０℃）の処理で、石英に匹敵する性質の硬い皮膜が得られます。 非常に薄い膜厚（２μｍ以下）が得られます。 １液性の処理液を用いるので、取り扱いが容易です。 競合材料（ゾル・ゲル法によるシロキサン）ではシリカ中に有機基が残存し、薄い膜しか作成できません。...

メーカー・取り扱い企業： 日東商事株式会社