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PR大型製品から小型製品まで適用可能!寸法形状制約が少ない表面改質技術のご…
『溶射』とは、溶融・半溶融状態に加熱した材料粒子を加速衝突させて 皮膜をつくる表面改質技術です。 メッキや蒸着等に比べて成膜速度が速く、多様な材料(金属・サーメット・ セラミックス等)の溶射が可能。 当社では、腐食環境や摩耗環境そして耐熱目的向けなど、製造現場の 操業条件に応じた表面改質をご提案させていただきます。 何かお困り毎があればお気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業: 大阪富士工業株式会社
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PR切削液を微細化することにより、切削液の浸透性・親水性が向上し加工精度が…
『リキッドカッター』は、特殊セラミックボールを通過させた液を ミキシング及び剪断することにより、液体を細分化できるクーラント液の ナノ化ミキサーです。 液体分子は細分化すると浸透圧が弱くなり、表面張力が低下するため、浸透性、親水性が向上。 また、カートリッジ構造となっており、両端をクランプで固定しているため、分解・清掃が簡単にできます。 【特長】 ■液体を細分化 ■表面張力が低下するため浸透...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーシーエス 加須営業所 営業技術部
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非接触なのでクリーン!高効率&省エネルギー「フラッシュランプ」
高効率/省エネルギー!基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱する…
樹脂基板にダメージなく、上層のみ焼結できる ・例:導電性材料、結晶材料など ■接着:反りなどが発生することなく、接着することができる ・例:光ディスク、カバーガラスとフィルム接着など ■表面改質:瞬間的に高エネルギーを照射することで、表面の改質ができる ・例:表面水分除去など ■剥離:大面積を一括で照射することで、処理時間短縮ができる ・例:支持基板からのOLED剥離など ...
メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社
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加熱効率向上で省エネルギー化!高速応答性でサーマルバジェット低減を実現
、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧い...
メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社
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大面積で一括照射・高照度での照射が可能!複数パルスの照射もできる加熱装…
対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1~60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お使いいただけます。 【特長】 ■スペクトル ・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度...
メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社
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