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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRプロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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先進的の技術にふれる喜びが、ここにあります!
当社では、航空・宇宙機器関連の供試体、試験装置、支援機材などの設計、 並びに組立用・部品加工用治具などの設計受託業務を展開しております。 専門知識・技術を備えた優秀な人材が、主に3次元CADを駆使して幅広い 業務を行っています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクアス
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