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19件 - メーカー・取り扱い企業
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PR高品位微細印字で幅広い素材にも対応できる「新型基板マーキング装置」と「…
「最先端クラスのプリント基板製造に提供する新たなソリューション」をテーマに 三菱電機株式会社様ブースにて「新型基板マーキング装置」と「基板分割機」の 実機を展示いたします。 「新型基板マーキング装置」はプリント基板のトレーサビリティに必要な二次元コードや 文字の高速微細印字および多様な素材に対応した高精細印字をご提案いたします。 ※ブースにご来場いただいたお客様へ先着順で記念品をプレゼント! ...
メーカー・取り扱い企業: 名菱テクニカ株式会社 三菱電機グループ
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ステンレス製バフ研磨装置 ~機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現~
PRステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安…
弊社のバフ研磨装置、砥石研磨装置は、主に伸銅(条)業界においてご使用いただいております。 焼鈍後の酸化スケール除去、出荷前の仕上工程等で役立ちます。 ◆長期間の使用で機械周りの錆や腐食が気になる! 洗浄ブース構造で観音扉、飛散防止カバー等によりブース外への水飛散対策をし、 更には高剛性スタンドやベースをステンレス製にする事で設置場所の雰囲気による腐食も防ぐので安心して長期間お使いいただけ...
メーカー・取り扱い企業: 生田産機工業株式会社
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【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…
機能追加 ・USBインターフェース追加 ・パラメータ数増加 などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。 [高分解能位置決め装置の特長] フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラで構成されています。 フィードバックステージ内蔵のリニアエンコーダで検出する位置情報をもとにフィードバック制御するため高分...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)
サブミクロン分解能で位置決め!エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20~40…
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm(0.1μm)か50nm(0.05μm)分解能で動作します。 ■長ストローク 最大400mmの可動ができます。 これによ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-111
100nm分解能で位置決め!リニアエンコーダによる位置フィードバックで…
サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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10nm分解能で位置決め制御!検査や研究の再現性向上に!
10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 外部機器か...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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手元で簡単操作 位置決め対象を見ながら操作ができる
位置決め装置のステージコントローラ(シグマテック製)を手元で操作することができます。 ジョグによるステージ動作だけでなくコントローラにプログラムされた動作(ティーチング機能)を実行することができます。 ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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エンコーダ内蔵!高分解能位置決めステージ
御することで100nnまたは50nm分解能で 動作します。 進行方向に対してスリムなモデルの特注例です。 スリムなメリット ・省スペースで長いストローク ・定盤のスペース確保 ・検査装置の小型化...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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10nm分解能で位置決め!再現性に優れ、20~200mmストロークのス…
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいく...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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5nm分解能で位置決め!再現性に優れ、可動距離がミリオーダー
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動…
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能(0.1μm or 0.05μm)の再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…
光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-414
50nm分解能で位置決め!ロングステージ向けコントローラ
サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて50nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-41...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-114
100nm分解能で位置決め!ロングステージ向けコントローラ
サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-11...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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