【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

日本製バイオマス燃料ペレット製造装置【4t/h以上の大型機も】

PR国内最大級フラットダイ式『ＦＭＰ―１２００ＷＳ型』もラインアップ。木質…

半乾式連続ペレット製造装置　FMPプレスペレッターは、 水分・油分・バインダーが入っている原料を効率よくペレット状に造粒加工する装置です。 ★堆肥生産施設として本製品を導入する場合は、農水省みどり投資促進税制をご活用頂けます。 【特長】 ■処理能力4t/h（FMP-1200WS型。処理量は原料によって増減します。） ■円錐形のローラーにより、均一な圧力で押し出せる為、常に安定したペレットが製造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイガーチヨダ

【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染（分子状汚染）を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST