ICタグによるクリーンウェア管理サービス

PRICタグによりウェア管理業務を省力化！ 洗濯回数が把握できるようにな…

当社では、お客様のクリーンウェアにICタグを取り付け、当社工場への 入荷時と出荷時に専用のICタグリーダーで読み取りを行い、ウェアごとの 洗濯回数データを管理できる『ICタグによるクリーンウェア管理サービス』を行っております。 ICタグを取り付けたウェアごとに洗濯回数を個別管理できるため、 お客様が設定された洗濯回数を超えたウェアをタイムリーに交換可能。 ウェア劣化によるコンタミネー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社菱進

サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～40…

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。 ■長ストローク ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

3D形状測定機（VR-5200）測定受託

３D形状測定機（VR-5200）を使用した寸法測定を承ります。

作成します。 作成されたデータは自由に回転させたり、高さ倍率を変更したりすることで凹凸を強調したりもできます。 ただし上方から光を当てる関係上、鏡面や透明な製品は光が透過や乱反射してしまい読み取りが困難です。 また屋根のひさしのようなアンダーカット形状は光が届かない為、ひさしの先端までの読み取りとなります。 ※鏡面や透明につきましては専用のスプレーを塗布することで取り込みが可能になりま...

メーカー・取り扱い企業： エーアイ株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設定値：30...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのス…

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

5nm分解能で位置決め！再現性に優れ、可動距離がミリオーダー

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステー...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：5mm/sec（UPシリーズ） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6mm/sec（ステ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6m...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm 最大動作速度設定値：...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージ FS-1040X/XY

【エンコーダ内蔵】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性…

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発したエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御を行うことで分解能・位置決め再現性・位置保持性に優れています。 フィードバックステージコントローラ FC-411と組み合わせることで『50nm』分解能で動作。 FC-11...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

ニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分解能で『40mm』ストロークで動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社