• FCXP-007 製品画像

    FCXP-007

    PR塗膜の摩耗がなく、長期的に連続使用することが可能!当社の取り扱い製品の…

    当社で取り扱っている『FCXP-007』についてご紹介いたします。 当製品は、PEEK樹脂のPTFEを添加したグレード。PTFEを添加することで、 非粘着性、低摩擦性が向上します。 また摺動部分での耐摩耗性が特に優れており、塗膜の摩耗がなく、長期的に 連続使用することが可能なグレードとなっております。 【特長】 ■非粘着性 ■低摩擦性 ■耐摩耗性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エフシー

  • 【資料】二軸混練押出機TEXによるリサイクルプロセス事例集 製品画像

    【資料】二軸混練押出機TEXによるリサイクルプロセス事例集

    PR【リサイクル事例集無料進呈!】 広い適用範囲、効率的な連続生産、樹脂の…

    『二軸混練押出機TEX』は広範な原料やプロセスに対応した高いカスタマイズ性能、 バッチ式とは異なる連続生産性を持つ機械です。 またヒーター伝熱とスクリュのせん断による高いエネルギー効率、高トルクによる広い運転領域などの特長を持ち、 樹脂のリサイクルにおいて非常に多くの適用事例がございます。 当資料では、ケミカルリサイクルや架橋切断、バイオマス原料への対応、脱塩素処理など 『二軸混練押出機TEX...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部

  • High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置 製品画像

    High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

    半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

    『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載してお...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 製品画像

    『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

    半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

    『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • ドライエッチング装置 製品画像

    ドライエッチング装置

    RIEモードとDPモードの切り替えが可能!特殊表面処理によるメタルコン…

    『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • アッシング装置 製品画像

    アッシング装置

    エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

    『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RI...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

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