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    全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』

    PRタッチパネル搭載!荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…

    プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル(デジタル設定・表示)によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型(成形)は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク(成形体)に当たり荷重がかかると、フローティング...

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    メーカー・取り扱い企業: エヌピーエーシステム株式会社

  • VCG-1 車載ネットワークゲートウェイ 製品画像

    VCG-1 車載ネットワークゲートウェイ

    PRVCG-1 は、マルチポート、マルチバスの メッセージルーティング…

    VCG-1 Vehicle Communication Gatewayは、設定が簡単なマルチポート、マルチバスの メッセージルーティングおよびデータ変換デバイスです。 通常はスタンドアロンで動作するように設計 されており、システムがCAN-FDや車載イーサネットなどの新しい通信バスやテクノロジーに移行するときに、複数のモジュールをブリッジするのに役立ちます。ユーザーが作成したスクリプト...

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    メーカー・取り扱い企業: ATI Worldwide LLC 日本支社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    ◉ 装置運転・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • イオンビームエッチング・ミリング(IBE)装置 製品画像

    イオンビームエッチング・ミリング(IBE)装置

    高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

    特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチング イオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善 基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化 最新OSの採用と制御システムの改善による装置安定稼働 他社製プロセスモジュールをドッキングできるフレキシブルなソフトウエア構成 ...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 超高真空スパッタリング装置(STM2323型) 製品画像

    超高真空スパッタリング装置(STM2323型)

    先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

    10‐⁷paの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動CtoC方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も選択でき、基板や目的に合わせて個別要求にご対応いたします。 シンプルな装置構成にも対応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』 製品画像

    平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

    ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!

    【仕様】 ■電源電圧:AC200V 三相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%) ■最大電流:250A ■運転可能周囲温度湿度:+5~+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm):3940×1980×1550 ■装置システム敷地寸法(W×Dmm):5000×3000 ■装置本体重量(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空

  • 小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』 製品画像

    小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

    小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

    です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シンプル設計で省スペース ■ターゲットと基板間の距離を任意に設定可能 ■高温での基板加熱が可能 ■チラーを...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

    装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載(±5%以内(SiO2でφ170mm以内)) ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品,  自動車・樹脂, 特殊膜, MEMS ■代表的な成膜材料 ・誘電体膜...

    メーカー・取り扱い企業: 芝浦メカトロニクス株式会社

  • 枚葉式スパッタリング装置 製品画像

    枚葉式スパッタリング装置

    電波透過膜を高品質に実現する枚葉式スパッタリング装置です。

    先進運転システムに適したミリ波レーダー用エンブレムやドアハンドルの成膜に採用されています。 ご要望・ご予算等どうぞお気軽にご相談ください。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせくだ...

    メーカー・取り扱い企業: 芝浦メカトロニクス株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    ◉ 装置運転・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜レート、APC自動圧力制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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