【プロセス分析計 技術資料】CMT工程の過酸化水素を全自動で測定

プロセス分析計 / オンライン分析計でCMT工程における過酸化水素の濃…

、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。 一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。 過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常時監視する必要があります。このように、C...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【イオンクロマトグラフ】H2O2中トリメチルアミンと標準陽イオン

半導体製造向け過酸化水素トリメチルアミンと標準陽イオンの測定をイオンク…

当資料では、イオンクロマトグラフィーにより、30％の過酸化水素（H2O2）中のトリメチルアミン（TMA）および標準陽イオンの測定を行った結果をご紹介しております。 分析にはマトリックス除去を伴うインライン濃縮（MiPCT-ME）を用いて、 陽イオンの連...

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プロセス分析計（滴定/水分/金属分析）【導入事例集】

世界で実際に導入されたプロセス分析計 / オンライン分析計の導入事例集…

収プラント、発電産業） 事例4：パルプ化液中のアルカリ、炭酸塩、水酸化物、硫化物の分析（中和滴定） 事例5：塩水中のカルシウム、マグネシウムの分析 事例6：亜鉛、硫酸、鉄の分析 事例7：過酸化水素の分析（酸化プロピレン（PO）生産のためのHPPO法） 事例８：アセトンとフェノール中の硫酸の分析（クメン法） 事例9：硫酸と硫酸亜鉛の分析（ビスコース/レーヨン生産） 事例10：過マンガ...

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【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析...

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