高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』

PR独自のろ過方式で高粘度液も精密にろ過。100ミクロン以下のスリット幅で…

『W-CELL フィルター装置』は、インク・塗料・顔料・ラテックス・合成樹脂、 製紙、果実・野菜ジュース、液卵、にごり酒などの分級ろ過や異物除去に適したフィルター装置です。 高粘度・高濃度スラリーでも安定した連続ろ過が可能。 ステンレス製のため耐圧・耐熱性に優れ、長寿命で低ランニングコストを実現します。 スクレーパや逆洗による残渣の除去が容易で、装置の自動化が可能。 大型から小型...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社荒井鉄工所

油水分離フィルター『FP-ZE型』　※エマルジョン油粒子を吸着！

PR水中でエマルション化した油分をフィルターで簡単除去！メンテナンスを簡単…

エマルジョンになっている油とは、 油粒子が超音波や摺動面の摩擦により油粒子が微細化されている状態の油になります。 油水分離フィルター『FP-ZE型』は、水中にエマルション化した、 オイルスキマー等では除去が難しいとされている油分の除去が可能な 油水分離フィルターです。 当社は東京ビッグサイトにて開催される「洗浄総合展」に出展いたします。（小間番号：W-118） 皆様のご来場を心よりお待ちしてお...

メーカー・取り扱い企業： タキエンジニアリング株式会社

シリコーン樹脂溶解剤『KSRシリーズ』

基板にダメージを与えず、シリコーン樹脂のみ容易に溶解除去が可能なシリコ…

『ＫＳＲシリーズ』は、シリコーン樹脂を容易に溶解除去し、 且つ金属、ガラス、セラミックス、ガラスエポキシ等の基板に ダメージを与えない、室温での利用が可能な樹脂溶解剤です。 【特長】 ■各種シリコーン樹脂を溶解除去が可能 ■塩素系溶剤を...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部

CMP後洗浄液『CMPシリーズ』

金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液

CMP後のウェーハ上に残留した金属不純物やパーティクル、有機物を効率良く洗浄することが可能なCMP後洗浄液です。 各種金属材料や層間絶縁膜に対してダメージを与えません。 【特徴】 ■CMP後の各種汚染物に対して優れた洗浄性 ■希釈使用が可能（30～100倍程度） ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...■Cu-CMP, W-CMP向け 　・ CMP-M02 ■W-CMP...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部

チタンエッチング液『TIシリーズ』

各種金属材料との選択エッチングが可能なチタンエッチング液

CuやAu電極のバリア層や密着層の除去において、Tiの選択的なエッチングが可能です。 【特徴】 ■TI-8Aは各種金属との選択エッチングが可能であり、TiNやTiWのエッチング液としても使用可能 ■TI-101は過酸化水素水を...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部