粉末用イオン注入装置

IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…

特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理：元の材料特性が保持されます。 コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重：追加の加工が不要です。 精密で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

窒化アルミニウム部品

優れた熱伝導性、高い電気絶縁性、およびシリコン（Si）に近い熱膨張率の…

窒化アルミニウムは、その高熱伝導性、高耐食性を活かして、半導体製造装置用のヒーターや静電チャック、サセプタ、クランプリング、カバープレートなどで使用されています。 また、MRI等の医療機器用の部品にも使用されています。 MARUWAでは長年培ってきた材料技術をベースに、研究開発・素材作製・機械加工まで一貫した体制を確立しています。　独自のホットプレス法と様々な機械加工を用いた生産により、半導体製造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MARUWA 本社,東京支店,関西支店,東北営業所,北信越営業所,九州北営業所,R&Dセンター