• サプライチェーン・リスク回避!実績豊富なカンボジア製ACアダプタ 製品画像

    サプライチェーン・リスク回避!実績豊富なカンボジア製ACアダプタ

    PR安価で高効率なACアダプタ、GaN搭載(窒素ガリウム)急速充電器、バッ…

    大手台湾電源メーカー【Kuantech (Cambodia) Co.,Ltd】が、カンボジア国に、線材から自社製作できる自動化の進んだ電源製品の巨大工場を設立。 弊社取扱も、カンボジア工場視察および監査を重ねて、既に実績は5年間で、約50万個以上。 <Kwantech社の特長> ■充実した製品ラインナップ  ACアダプター/充電器、医療機器用ACアダプタ、PD対応USB充電器、USBケ...

    メーカー・取り扱い企業: シノ・アメリカン・ジャパン株式会社

  • チェーンレス・樹脂製連続バケットコンベヤ『SBP型スネコン』 製品画像

    チェーンレス・樹脂製連続バケットコンベヤ『SBP型スネコン』

    PR金属粉の混入を防止します!食品、化学薬品、電池原料など付加価値の高い搬…

    『SBP型スネコン』は、従来型のチェーンにバケットを取り付ける方式ではなく、バケット自体をチェーンにしたチェーンレス・バケットコンベヤです。 従来のチェーン式バケットコンベヤと比較して1/3程度の動力で運転が可能です。 樹脂の特性を生かしたバケットは、搬送物の付着が少なく、耐食性、 耐薬品性等に優れた効果を発揮します。 また、各々のバケットが密着連結しているため搬送物の損傷や漏洩が...

    メーカー・取り扱い企業: エステック株式会社

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・156mm角/125mm角ウェハ対応  ・1500枚/hの高生産性  ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・固相拡散用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 製品画像

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    新開発 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 130W 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力:〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラズマ処...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工機株式会社 第1機器部

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・異形状・サイズ基板の同時処理  ・高い成膜速度  ・シンプルメンテナンス  ・省フットプリント  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 【オーダーメイド製作実績】CVD装置 製品画像

    【オーダーメイド製作実績】CVD装置

    「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

    ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ■太陽電池用プ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    原子層堆積(ALD)装置

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール...

    メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社

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