• ★競争力のある価格★高い技術力★強い連携力★プリント配線基板 製品画像

    ★競争力のある価格★高い技術力★強い連携力★プリント配線基板

    PR常に耐EMIを意識したレイアウト、配線を環境に適した素材でご提供します…

    当社では、プリント配線基板の開発・設計および試作・量産を行っています。 常にお客様の視点からのスピード・品質・コストに対応し、 海外工場を利用した競争力のあるコスト対応、生産能力を実現。 また、一般の基板設計から高密度多層基板、COB、SMT等の高難易度の 基板まで満足のいく品質をご提供します。 【ラインアップ】 ■片面基板 ■2段スタックビルドアップ基板 ■両面貫通基...

    • 競争力ある価格-1 (003).png
    • 4層基板編集.jpg
    • 6層貫通基板編集.jpg
    • 8層基板編集.jpg
    • 両面基板編集png.png
    • 基板画像2-1.png
    • 基板画像3-1.png
    • 基板画像3-2.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウイル

  • ★中心粒径250nm~★焼結体向け超微粒SiCパウダー 製品画像

    ★中心粒径250nm~★焼結体向け超微粒SiCパウダー

    PR【低温焼結・高密度化】焼結用材料に好適!超微粒α-SiCパウダー

    当社独自のSiC(炭化ケイ素)微細化技術を活かしたα-SiCパウダー『GC#40000』をご提供 『Dv50(中心粒径):0.25μm』の超微粒SiCによる、優れた焼結性を示します (GC#40000を焼結体原料に使用により期待されるメリット)  ・低温焼成:CO2削減、ランニングコスト低減  ・緻密化 :成形体強度の向上、ポアの抑制 ※プレス成型や金型における流動性が必要な場合、球状SiC造...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド

  • 真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D> 製品画像

    真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>

    CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。

    真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ 製品画像

    大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ

    第4の状態(プラズマ状態)を大気圧下で作り出す装置です。

    大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマは、第4の状態(プラズマ状態)を大気圧下で作り出す装置です。電極構造をホロー形状にし、ホロー部で電子密度のプラズマが増加し、高密度のプラズマを生成します。電極間距離を最適設計することにより、大気圧下でのプラズマの生成が可能になりました。放電ガスのブローによりプラズマの噴出を形成しています。水中プラズマ生成への応用が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR