リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

プラズマ技術～バイオ・医療への応用

a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズ…

【表面除染の特長】 ■複雑な形状のインプラントを効率的に掃除する用の高密度プラズマ ■液体除染の欠点を補うドライプロセス ■イオンフラックス制限・低温処理によるダメージの最小化 ■有機汚染・残留を除去する高密度O*プラズマ ■金属表面の酸化層を除去する高密度H*...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社