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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高効率の微粉砕作業!サブミクロンから、ナノサイズの均一な粒度分布を実現…
流中で材料を 磨砕する微粉砕機(乾式ジェットミル)です。 サブミクロンから、ナノサイズの均一な粒度分布を実現します。 高速渦流の中で材料を粉砕させるジェットミルで、鉱物や金属類の 高密度材料を粉砕するには好適です。 タングテンカーバイトや、コバルト等のタフ金属の微粉砕が可能。 高能率の解砕、ほぐし機としてもご使用ください。 【特長】 ■介在物を用いない粒子間の衝突...
メーカー・取り扱い企業: サンレックス工業株式会社
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