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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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電子部品・ウェハ・ガラスなどの高速・緻密搬送
自動生産ラインの中で、組立・加工・検査などのステーション間で効率的なワーク(製品)搬送やストックをおこなうことは重要なテーマです。 搬送機でも微細・高密度・高タクトの要望が高まると、単純な位置決めだけでなく正確な軌跡制御が必要になります。 また、機構の剛性や可動部の質量・慣性の制限から最適な加減速制御によるなめらかな動作で最高タクトと高精度を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノ
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