真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

直動システム｜ラック＆ピニオン直動システム

PRボールねじ搬送のたわみ・速度制限・大口径化・モータ大型化の悩みを解決！…

当社のラックアンドピニオン直動システムは、“高精度・高速・高搬送力・高耐久・長尺”を兼ね備えます。搬送重量がトンクラスでも高速・高精度に搬送可能。ラックはマシンベッドに直接設置の為、ボールねじで発生する”たわみ”の心配は不要です。 バックラッシ最小1arcminの遊星歯車減速機と、累積ピッチ誤差最小30μm／1000mmのラックにより、非常に高精度な位置決めが可能。ラックは最長2mですが、並...

メーカー・取り扱い企業： ストーバー・ジャパン株式会社

高速昇温雰囲気炉／HAF

各種雰囲気が手軽に得られる研究開発・生産炉

HAFシリーズは、各種雰囲気中で短時間に昇温出来る高速昇温雰囲気炉です。大気炉、雰囲気炉とどちらも応用出来、各種研究が可能です。 【標準仕様】 ◆『最高使用温度』：1700℃ ◆『炉内寸法』　　：200W×200H×300D～ ◆『雰囲気』　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広築 営業部

超高速高温溶解炉／RMF

卓上型として開発されたエレベーター式研究開発炉で、不活性ガスが導入でき…

●広築の新素材開発装置は要求仕様に応じ他社に無い、世界に類を見ない製品を提供します。新素材の研究から量産製造までを丁寧にサポートします。 ●低温から高温（100℃～1650℃）まで対応します。 ●卓上から大型まで対応します。 ●産業用ロボットを使用した処理物の装入や取出しのハンドリングも一貫して対応します。 ●弊社所有の実験炉で製品サンプルの実験試作を行う事も可能です。 処理物の材質...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広築 営業部

【開発品】高熱伝導・高強度＜窒化ケイ素 薄膜回路基板＞誕生

高速・大容量通信の熱問題を解決。高強度、高靭性による高い信頼性と高熱伝…

第5世代移動通信システム（5G）がスタートし、高速・大容量通信を実現させるための熱問題が顕在化しています。高熱伝導窒化ケイ素基板に薄膜集積回路を形成することで、放熱性に優れ、薄板化しても割れにくい回路基板を製作し提供致します。...

メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社

パワーデバイス（SiC）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

コン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実現します。製品取数の増加、タクトタイムの短縮が生産性の向上に繋がるほか、水を使用しないため環境に優しく、生産コストの削減が可能です。 【MDI独自技術SnB（スクラ...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

高周波デバイス（GaNonSiC、GaAs）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

コン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実現します。製品取数の増加、タクトタイムの短縮が生産性の向上に繋がるほか、水を使用しないため環境に優しく、生産コストの削減が可能です。 【MDI独自技術SnB（スクラ...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

機能性繊維の共同開発と受託生産

「試作は10kg、生産は50kgから」貴社の素材の繊維化と、その量産に…

【設備】 ■高速機(マルチフィラメント対応) 　・紡速：3000m/min.(POY対応) 　・紡糸温度：250～295℃ 　・繊度：56Dtex～ 　・ノズルH数　12、24、36、48 ■多目的紡糸機...

メーカー・取り扱い企業： 富士紡ホールディングス株式会社 近未来商品開発統括部 (BtoBサイト担当部門)

【開発情報】高誘電体基板・単板コンデンサ

JFCが開発した単板コンデンサは、インダクタンス成分を抑えられ、高い周…

　第５世代移動通信システム(5G)のサービスが開始され、自動車の自動運転や遠隔医療への影響が期待されております。 　これらの技術はマイクロ波やミリ波と呼ばれる高い周波数を使い、高速で大容量のデータを低遅延で伝送させる技術を利用してますが、一般的な積層セラミックスコンデンサ(MLCC: Multi-Layer Ceramic Capacitors)では積層された内部電極が高周波...

メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社

株式会社シンエイ　事業紹介

セラミックス加工のプロフェッショナル！1個から量産まで対応します。

【設備】 ○マシニングセンタ ○高精度高速小径微細加工機 ○平面研削盤 ○円筒研削盤 ○内面研削盤 ○平行平面研削盤 ○ラップ盤 ○端面専用機 ○三次元測定機 ○工場顕微鏡 ○表面粗さ測定器　他 ●詳しくはお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シンエイ

薮田精密株式会社　事業紹介

超精密研磨のことならプロのエンジニア集団の当社にお任せ下さい

ラッピング) 　・9B型両面研磨機(ラッピング) 　・6B型両面研磨機(ラッピング) 　・4B型両面研磨機(ラッピング) 　・片面ポリシングマシン 　・自動精密片面ポリシングマシン 　・高速平面研磨機 　・油圧平面研磨機 　・スライシングマシン 　・円筒万能研削盤 　・センタレスマシン 　・立軸ロータリー平面研削盤 　・横軸ロータリー平面研削盤 　・万能切子研削盤 　...

メーカー・取り扱い企業： 薮田精密株式会社

カーフロスゼロで高速切断！ドライ加工のスクライブ＆ブレイク工法

水を使わないスクライブ＆ブレイク工法！ガラスやセラミックなどの硬脆性材…

phire)、シリコン(Si)などを基材に金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を切断加工（個片化）する技術です。　 独自の技術である「スクライブ＆ブレイク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実現します。製品取数の増加、タクトタイムの短縮が生産性の向上に繋がるほか、水を使用しないため生産コストの削減が可能です。 【特徴】 ■多くの材料に対して、安定高速切...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

超高速昇温電気炉／SF

大気中、素早く昇温でき、作業能率の良い、コンパクトな研究開発実験炉

室温から1600℃に達するまでわずか十数分、必要温度を得るのに数時間もかかっていた従来の電気炉の欠点を見事に解決した超高速電気炉です。 より多くの試験が異なる温度で行われ、作業時間の合理化と節約に大きな効果があります。 【仕様】 ◆『最高使用温度』：1700℃ ◆『雰囲気』　　　：大気 ◆『ヒーター』　　：二...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広築 営業部

大型高速昇温電気炉／HLF

温度分布が良い研究開発・生産炉

酸化雰囲気で1700℃の大型超高速昇温電気炉、研究開発、生産用として優れた性能を発揮します。 【仕様】 ◆『最高使用温度』：1700℃(1800℃) ◆『有効寸法』　　：200H×200W×300D～ ◆『雰囲気』　　　：大...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広築 営業部