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PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説
セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社友玉園セラミックス
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…
接設計・検査方法 2.水路設計 3.簡易熱計算(電源容量、断熱材、冷却水量などの設計) 4.カーボンヒータの抵抗値の設計 5.電極設計 6.冷却水系統の設計 7.給気・排気系統の設計 8.運転モード設計 9.炉内の流れの設計指針(製品品質を考慮) 10.温度制御・温度分布測定方法 カーボンヒータ加熱炉の主な仕様 (1)最高温度:2,500℃ (2)ヒータ:断熱材:カー...
メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉
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ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大8インチ相当のウェハや各種基板に対応。CtoCシステム採用による自動化&クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気(不活性、酸化...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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