大陽日酸株式会社 低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃

液化窒素の冷熱を利用して、 製薬合成等の化学合成環境を低温に保持するシステムです。その最低温度は、-120℃まで対応可能です。

液体窒素の冷熱(-196℃)を利用し、低温環境を実現します。
主に、原薬・中間体の低温合成プロセスで使用されます。

冷熱を利用する方法として、大きく分類すると、「間接冷却式」と「直接冷却式」の2種類がございます。

低温合成、低温反応、反応熱除去、暴走反応防止などにお使いいただいています。
プラントスケールからラボスケールまでお客様のニーズに合わせて幅広く対応します。

納入実績国内No.1
数多くの製薬メーカー殿や化学メーカー殿に納入実績あり
GMP対応も行っております。

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基本情報低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃

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カタログ低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃

取扱企業低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃

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大陽日酸株式会社

 日本の産業界を根幹から支える鉄鋼業や化学工業では、酸素や窒素が酸化促進用や雰囲気ガスとして大量に使用されています。  自動車、機械、建設などの金属加工分野では、切断・溶接、熱処理などに酸素、窒素、アルゴン、アセチレンが使用され、品質と生産性の向上に貢献しています。  急成長を遂げているエレクトロニクス産業においては、窒素やアルゴン、電子材料ガスが大量に使われています。  あらゆる産業分野に、必要なガスを、必要なときに。私たちは、日本で、海外で、最適な供給方式でお届けしています。

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