株式会社昭和真空 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。
W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。

【特徴】
○独立して稼動可能な処理室を2室有している
○生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れる
○効率的なサイクルタイム/全自動による省力化

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基本情報高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

【仕様】
[寸法・重量]
○外形寸法 W1700mm×D900mm×H1700mm
○装置重量 約1200kg
[所要諸元]
○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A)
○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上
      水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)
      流量:約0.66m3/hr (11L/min)
○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa  設定圧:0.5MPa
○所要ガス (N2ガスリーク用)  供給圧:0.2MPa以上
               設定圧:0.05~0.1MPa
[性能]
○到達圧力 6.7×10-4Pa以下 (2槽排気)
○排気時間 6.7×10-3Pa迄20分 (2槽排気)
○最高温度 300℃ (試料用トレーの中央部の表面温度)
○常用温度 250℃ (試料用トレーの中央部の表面温度)
○温度調整精度 ±15℃以内 (250℃にて、試料用トレーの中央部の表面温度)

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用途/実績例 水晶デバイス

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カタログ高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

取扱企業高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

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株式会社昭和真空

【営業種目】 ○水晶デバイス用、光学薄膜用、電子デバイス用などの  総合的な真空関連装置並びに真空機器等 ○真空蒸着装置、スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、  ドライエッチング・アッシング装置、真空冶金(溶解、熱処理、燒結、  脱ガス)装置、光学薄膜用モニター(多色式、単色式)、  IAD冷陰極イオンソース、液晶注入装置、有機EL用蒸着装置、その他

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