サムコ株式会社 ドライエッチング装置 RIE-10NR(平行平板型RIE装置)

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

● 高い選択比と高精度のエッチングが可能。

● PLCコントロールによる自動運転およびプロセスパラメータの保存が可能。

● 試料はφ8インチまで対応可能。

● 高速排気エッチングが可能。

● コンパクト設計

基本情報ドライエッチング装置 RIE-10NR(平行平板型RIE装置)

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装置は、価格が低廉でありながら搭載されたPLCにより各種エッチング条件の管理を行うことができるコストパフォーマンスに優れた装置です。

価格情報 -
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型番・ブランド名 RIE-10NR
用途/実績例 ・Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング
・半導体レーザの作製
・欠陥解析

取扱企業ドライエッチング装置 RIE-10NR(平行平板型RIE装置)

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サムコ株式会社

半導体等電子部品の製造・販売を行っています。 最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。

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