半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

及び純水槽にはＮ２ガス散気システムを装備 ○バブリングにより各液体の混合と高レベルの洗浄効果を発揮 ○薬液槽はすべてPVC製トレイ上に設置 ○アセトン槽にはSUS製トレイを設け、液ダレやオーバーフロー、 　排水への薬液混入に対処 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社